Preview

Известия высших учебных заведений. Черная Металлургия

Расширенный поиск

Многослойные аморфно-кристаллические высокоэнтропийные металлические пленки

https://doi.org/10.17073/0368-0797-2023-2-191-196

Содержание

Перейти к:

Аннотация

Высокоэнтропийные сплавы являются многоэлементными материалами и содержат не менее пяти элементов близкой концентрации. Высокоэнтропийные сплавы являются, как правило, однофазными термодинамически стабильными твердыми растворами замещения, преимущественно на основе объемноцентрированной кубической и гранецентрированной кубической кристаллической решеток. Стабилизация твердого раствора при кристаллизации высокоэнтропийного сплава обеспечивается взаимодействием ряда факторов, а именно, высокой энтропией смешения, низкой скоростью диффузии компонентов, малой скоростью роста кристаллитов из расплава. Целью настоящей работы являлось получение новых знаний о структуре и свойствах высокоэнтропийных пленок, синтезированных на металлической подложке при осаждении многоэлементной металлической плазмы в среде аргона. Плазма была сформирована в результате электродугового с плазменным ассистированием независимого распыления катодов титана, алюминия, меди, ниобия, циркония. В результате выполненных исследований выявлен режим осаждения, который позволяет формировать пленки различной толщины близкого к эквиатомному состава. Методами просвечивающей электронной микроскопии установлено, что пленки являются многослойными образованиями, имеют наноразмерную аморфно-кристаллическую структуру. Микротвердость пленок существенным образом зависит от соотношения количества образующих элементов и изменяется в пределах от 12 до 14 ГПа, модуль Юнга – от 230 до 310 ГПа. Кристаллизацию пленок осуществляли путем облучения импульсным электронным пучком. В результате обработки формируется двухфазное состояние. Основной фазой является α-NbZrTiAl с объемноцентрированной кубической кристаллической решеткой с параметром 0,32344 нм; вторая фаза состава CuZr имеет простую кубическую решетку.

Для цитирования:


Иванов Ю.Ф., Прокопенко Н.А., Петрикова Е.А., Шугуров В.В., Тересов А.Д. Многослойные аморфно-кристаллические высокоэнтропийные металлические пленки. Известия высших учебных заведений. Черная Металлургия. 2023;66(2):191-196. https://doi.org/10.17073/0368-0797-2023-2-191-196

For citation:


Ivanov Yu.F., Prokopenko N.A., Petrikova E.A., Shugurov V.V., Teresov A.D. Multilayer amorphous-crystalline high-entropy metal films. Izvestiya. Ferrous Metallurgy. 2023;66(2):191-196. https://doi.org/10.17073/0368-0797-2023-2-191-196

Введение

Называемые высокоэнтропийными сплавы состоят из нескольких (как правило, пяти и более) основных элементов близкой концентрации в отличие от обычных сплавов с одним и редко двумя основными элементами и большим количеством легирующих элементов. Разработка таких сплавов указывает на появление новой парадигмы в дизайне современных материалов [1 – 3]. Как правило, высокоэнтропийные сплавы (ВЭС) обладают уникальным сочетанием механических, трибологических, физических, химических и многих других свойств. В большинстве случаев ВЭС являются однофазными термодинамически стабильными твердыми растворами замещения, преимущественно на основе ОЦК или ГЦК кристаллической решетки [4].

Предполагается, что стабилизация твердого раствора при кристаллизации ВЭС обеспечивается высокой энтропией смешения компонентов сплава в жидком состоянии, искажением кристаллической решетки, замедлением диффузии атомов и так называемым «коктейльным эффектом» [5]. В многочисленных исследованиях показано, что ВЭС могут иметь наноразмерную структуру или даже находиться в аморфном состоянии, что является следствием низкой скорости диффузии элементов и малой скорости роста кристаллитов [6; 7].

В работе [8] показано, что ВЭС могут заменить жаропрочные сплавы на основе никеля и могут быть использованы в качестве высокотемпературного материала следующего поколения. Высказано мнение, что ввиду уникальности свойств использование ВЭС в качестве потенциального материала покрытия для высокотемпературных применений является весьма перспективным. В качестве примера приведены исследования покрытия ВЭС состава NiCo0,6Fe0,2Cr1,5SiAlTi0,2 , обработанного SPS (электроискровое спекание) и APS (распыление атмосферной плазмой) методами, в сравнении с результатами испытания литого MCrAlY сплава. Авторы работы [8] пришли к выводу, что покрытия ВЭС, обработанные SPS и APS, могут заменить обычные MCrAlY сплавы в качестве наплавочного материала для высокотемпературного применения из-за их значительной высокотемпературной твердости, хорошего сопротивления окислению, низкой теплопроводности при низком температурном расширении.

Авторы работы [5] считают, что фокус исследования ВЭС должен отойти от попыток получить однофазные сплавы эквиатомного состава и вместо этого разрабатывать сплавы, которые обладают правильным балансом механизмов упрочения и механических свойств. Подтверждая выводы авторов работы [5], в ряде работ [9 – 12] показано, что к высокоэнтропийным сплавам могут быть отнесены многокомпонентные сплавы неэквиатомного состава, к тому же не являющиеся однофазными твердыми растворами. По результатам, представленным в работах [13 – 15], к недостаткам ВЭС можно отнести то, что ВЭС из тугоплавких элементов обладают высокими плотностью (высокий удельный вес) и хрупкостью. Несмотря на то, что годовая публикационная активность в области исследований ВЭС (на основе анализа результатов поиска «высокоэнтропийные сплавы» в Scopus) [16; 17] стремительно возрастает, до настоящего времени нет единой точки зрения о природе формирования замечательных свойств этих материалов.

Целью выполненных исследований является получение новых знаний о структуре и свойствах ВЭС, синтезированных в виде тонких (до 5 мкм) пленок ионно-плазменным методом, заключающимся в осаждении многоэлементной металлической плазмы, которая создана электродуговым плазменно ассистированным одновременным независимым распылением катодов выбранных элементов.

 

Материал и методы исследования

В качестве элементов, формирующих ВЭС, использованы титан, алюминий, медь, цирконий и ниобий. Подложками, на которые напыляли пленки ВЭС, являлись предварительно полированные образцы стали аустенитного класса 12Х18Н10Т, сплава титана ВТ1-0 и твердого сплава ВК8. Формирование пленок ВЭС толщиной до 5 мкм проводили на ионно-плазменной установке КВИНТА, разработанной в лаборатории плазменной эмиссионной электроники Института сильноточной электроники Сибирского отделения РАН и входящей в составе комплекса УНИКУУМ в перечень уникальных электрофизических установок России (https://ckp-rf.ru/usu/434216/) [18]. Часть пленок ВЭС была дополнительно облучена импульсным электронным пучком (установка СОЛО [19]) при следующих параметрах: длительность импульса пучка электронов 50 мкс; плотность энергии пучка электронов 20 Дж/ см2; количество импульсов воздействия 3 при частоте следования импульсов 0,3 с\(^{-}\)1. Особенностью воздействия импульсного пучка электронов, позволяющей формировать ультрамелкую (вплоть до аморфного состояния) структуру, является сверхвысокая (до 106 К/с) скорость охлаждения материала за счет теплоотвода в интегрально холодную подложку [20].

Исследования структуры, фазового и элементного составов пленок ВЭС осуществляли методами сканирующей и просвечивающей дифракционной электронной микроскопии. Состояние кристаллической решетки анализировали методами рентгеноструктурного анализа. Механические свойства пленок определяли путем измерения микротвердости.

 

Результаты исследования и их обсуждение

В ходе работы были проведены эксперименты по нанесению многоэлементных пленок металлов, исследованы режимы генерации газо-металлической плазмы, исследовано радиальное распределение плотности ионного тока из плазмы для источников металлической и газовой плазмы, измерены скорости нанесения пленок отдельных компонентов, определен элементный состав пленки, выполненный методами микрорентгеноспектрального анализа, выявлен оптимальный режим нанесения пленок ВЭС. Методами сканирующей и просвечивающей электронной микроскопии, рентгеноструктурного анализа выполнены исследования элементного и фазового составов, состояния дефектной субструктуры (относительная концентрация атомов, размеры, форма, расположение и объемная доля фаз, скалярная плотность дислокаций и тип дислокационной субструктуры, размер зерен и субзерен) сформированных ВЭС и ВЭС, облученных импульсным электронным пучком. Показано, что пленки ВЭС являются многослойным рентгеноаморфным материалом (рис. 1). Толщина слоев изменяется в пределах от 12 до 23 нм. Размер кристаллитов, формирующих слои, составляет 2 – 3 нм. Установлено, что твердость пленок ВЭС изменяется в пределах 12 – 14 ГПа, модуль Юнга – 230 – 310 ГПа.

 

Рис. 1. Электронно-микроскопическое изображение многослойной пленки ВЭС,
сформированной в результате осаждения на подложку многоэлементной плазмы:
а – светлое поле; б – микроэлектронограмма

 

Облучение пленки ВЭС импульсным электронным пучком (20 Дж/см2, 50 мкс, 3 имп.) сопровождается высокоскоростной кристаллизацией материала с образованием ячеистой структуры (рис. 2).

 

Рис. 2. Электронно-микроскопическое изображение многослойной пленки ВЭС,
сформированной в результате осаждения на подложку многоэлементной плазмы
и дополнительно облученной импульсным электронным пучком:
а – светлое поле; б – микроэлектронограмма

 

Размер ячеек изменяется в пределах 300 – 600 нм. Ячейки окаймлены прослойками второй фазы. Толщина прослоек изменяется в пределах 20 – 110 нм. Объем ячеек сформирован фазой состава α-NbZrTiAl, имеющей ОЦК кристаллическую решетку с параметром 0,32344 нм; прослойки второй фазы образованы сплавом CuZr (простая кубическая решетка).

Твердость пленок, измеренная при нагрузке на индентор 30 мН, изменяется в пределах от 6,9 до 8,8 ГПа и снижается при увеличении плотности энергии пучка электронов. Установлено, что высокие значения твердости исследуемого материала обусловлены субструктурным (упрочнение границами субзерен, ячеек высокоскоростной кристаллизации), дисперсионным (упрочнение наноразмерными частицами второй фазы, расположенными по границам ячеек кристаллизации) и твердорастворным (упрочнение, имеющее место вследствие искажения кристаллической решетки атомами элементов, формирующих сплав) механизмами. Не следует также исключать упрочнение внутренними полями напряжений, формирующимися вследствие присутствия в материале фаз с различными коэффициентами термического расширения.

 

Выводы

Выявлен оптимальный режим нанесения пленок ВЭС (с позиции минимизации энергозатрат формирования ВЭС элементного состава, близкого к эквиатомному, обладающего высокими прочностными свойствами), позволивший сформировать многослойные аморфно-кристаллические пленки следующего элементного состава: 25,7Ti–17,0Al–21,9Nb–22,3Zr–13,6Cu. Установлено, что дополнительное облучение пленок импульсным электронным пучком приводит (в условиях высокоскоростного охлаждения) к формированию структуры ячеистой кристаллизации с субмикронным размером ячеек. Объем ячеек сформирован фазой состава α-NbZrTiAl, имеющей ОЦК кристаллическую решетку с параметром 0,32344 нм; по границам ячеек расположены прослойки второй фазы состава CuZr (простая кубическая решетка).

Полученные результаты позволяют рекомендовать экологически чистый, поддающийся полной автоматизации электронно-ионно-плазменный метод формирования ВЭС для оказания научных и технологических услуг, направленных на повышение служебных характеристик деталей и изделий различного назначения.

Список литературы

1. Ye Y.F., Wang Q., Lu J., Liu C.T., Yang Y. High-entropy alloy: challenges and prospects. Materials Today. 2016;19(6): 349–362. https://doi.org/10.1016/j.mattod.2015.11.026

2. Cantor B., Chang I.T.H., Knight P., Vincent A.J.B. Microstructural development in equiatomic multicomponent alloys. Material Science and Engineering: A. 2004;375-377: 213–218. https://doi.org/10.1016/j.msea.2003.10.257

3. Yeh J.-W., Chen S.-K., Lin S.-J., Gan J.-Y., Chin T.-S., Shun T.-T., Tsau C.-H., Chang S.-Y. Nanostructured high-entropy alloys with multiple principal elements: Novel alloy design concepts and outcomes. Advanced Engineering Materials. 2004;6(5):299–303. https://doi.org/10.1002/adem.200300567

4. Mao H., Chen HL., Chen Q. TCHEA1: A thermodynamic database not limited for “high entropy” alloys. Journal of Phase Equilibria and Diffusion. 2017;38:353–368. https://doi.org/10.1007/s11669-017-0570-7

5. Pickering E.J., Jones N.G. High-entropy alloys: A critical assessment of their founding principles and future prospects. International Materials Reviews. 2016;61(3):183–202. https://doi.org/10.1080/09506608.2016.1180020

6. Погребняк А.Д., Багдасарян А.А., Якущенко И.В., Береснев В.М. Структура и свойства высокоэнтропийных сплавов и нитридных покрытий на их основе. Успехи химии. 2014;83(11):1027–1061. https://doi.org/10.1070/RCR4407

7. Miracle D.B., Senkov O.N. A critical review of high entropy alloys and related concepts. Acta Materialia. 2017;122: 448–511. https://doi.org/10.1016/j.actamat.2016.08.081

8. Praveen S., Kim H.S. High-entropy alloys: Potential candidates for high-temperature applications – An overview. Advanced Engineering Materials. 2018;20(1):1700645. https://doi.org/10.1002/adem.201700645

9. Nene S.S., Liu K., Frank M., Mishra R.S., Brennan R.E., Cho K.C., Li Z., Raabe D. Enhanced strength and ductility in a friction stir processing engineered dual phase high entropy alloy. Scientific Reports. 2017;7:16167. https://doi.org/10.1038/s41598-017-16509-9

10. Li Zh., Körmann F., Grabowski B., Neugebauer J., Raabe D. Ab initio assisted design of quinary dual-phase high-entropy alloys with transformation-induced plasticity. Acta Materialia. 2017;136:262–270. https://doi.org/10.1016/j.actamat.2017.07.023

11. Basu S., Li Zh., Pradeep K.G., Raabe D. Strain rate sensiti­vity of a TRIP-assisted dual-phase high-entropy alloy. Frontiers in Materials. 2018;5. https://doi.org/10.3389/fmats.2018.00030

12. Li Zh., Tasan C.C., Springer H., Gault B., Raabe D. Interstitial atoms enable joint twinning and transformation induced plasticity in strong and ductile high-entropy alloys. Scientific Reports. 2017;7:40704. https://doi.org/10.1038/srep40704

13. Трофименко Н.Н., Ефимочкин И.Ю., Большакова А.Н. Проблемы создания и перспективы использования жаропрочных высокоэнтропийных сплавов. Авиационные материалы и технологии. 2018;2(51):3–8. https://doi.org/10.18577/2071-9140-2018-0-2-3-8

14. Juan C.-C., Tsai M.-H., Tsai C.-W., Lin C.-M., Wang W.-R., Yang C.0C., Chen S.-K., Lin S.-J., Yeh J.-W. Enhanced mechanical properties of HfMoTaTiZr and HfMoNbTaTiZr refractory high-entropy alloys. Intermetallics. 2015;62:76–83. https://doi.org/10.1016/j.intermet.2015.03.013

15. Schuh B., Mendez-Martin F., Völker B., George E.P., Cle­mens H., Pippan R., Hohenwarter A. Mechanical properties, microstructure and thermal stability of a nanocrystalline CoCrFeMnNi high-entropy alloy after severe plastic deformation. Acta Materialia. 2015;96:258–268. https://doi.org/10.1016/j.actamat.2015.06.025

16. Gu J., Zou J., Sun S.-K., Wang H., Yu S.-Y., Zhang J., Wang W., Fu Z. Dense and pure high-entropy metal diboride ceramics sintered from selfsynthesized powders via boro/carbothermal reduction approach. Science China Materials. 2019;62(12):1898–1909. https://doi.org/10.1007/s40843-019-9469-4

17. Gromov V.E., Konovalov S.V., Ivanov Yu.F., Osin­tsev K.A. Structure and Properties of High-Entropy Alloys. Springer Nature Switzerland AG, 2021:110. https://doi.org/10.1007/978-3-030-78364-8

18. Коваль Н.Н., Иванов Ю.Ф., Тересов А.Д., Ахмадеев Ю.Х., Крысина О.В., Петрикова Е.А., Шугуров В.В., Лопатин И.В. Разработка комплексной технологии электронно-ионно-плазменного инжиниринга поверхности материалов и изделий. Наноинженерия. 2015;4(46):4–13.

19. Девятков B.Н., Коваль Н.Н., Щанин П.М. Получение сильноточных низкоэнергетичных электронных пучков в системах с плазменным эмиттером. Известия вузов. Физика. 2001;44(9):36–43.

20. Коваль Н.Н., Иванов Ю.Ф. Наноструктурирование поверхности металлокерамических и керамических материалов при импульсной электронно-пучковой обработке. Известия вузов. Физика. 2008;51(5):60–70.


Об авторах

Ю. Ф. Иванов
Институт сильноточной электроники Сибирского отделения РАН
Россия

Юрий Федорович Иванов, д.ф.-м.н., профессор, главный научный сотрудник лаборатории плазменной эмиссионной электроники

Россия, 634055, Томск, пр. Академический 2/3



Н. А. Прокопенко
Институт сильноточной электроники Сибирского отделения РАН
Россия

Никита Андреевич Прокопенко, младший научный сотрудник

Россия, 634055, Томск, пр. Академический 2/3



Е. А. Петрикова
Институт сильноточной электроники Сибирского отделения РАН
Россия

Елизавета Алексеевна Петрикова, младший научный сотрудник лаборатория плазменной эмиссионной электроники

Россия, 634055, Томск, пр. Академический 2/3



В. В. Шугуров
Институт сильноточной электроники Сибирского отделения РАН
Россия

Владимир Викторович Шугуров, научный сотрудник

Россия, 634055, Томск, пр. Академический 2/3



А. Д. Тересов
Институт сильноточной электроники Сибирского отделения РАН
Россия

Антон Дмитриевич Тересов, научный сотрудник

Россия, 634055, Томск, пр. Академический 2/3



Рецензия

Для цитирования:


Иванов Ю.Ф., Прокопенко Н.А., Петрикова Е.А., Шугуров В.В., Тересов А.Д. Многослойные аморфно-кристаллические высокоэнтропийные металлические пленки. Известия высших учебных заведений. Черная Металлургия. 2023;66(2):191-196. https://doi.org/10.17073/0368-0797-2023-2-191-196

For citation:


Ivanov Yu.F., Prokopenko N.A., Petrikova E.A., Shugurov V.V., Teresov A.D. Multilayer amorphous-crystalline high-entropy metal films. Izvestiya. Ferrous Metallurgy. 2023;66(2):191-196. https://doi.org/10.17073/0368-0797-2023-2-191-196

Просмотров: 610


Creative Commons License
Контент доступен под лицензией Creative Commons Attribution 4.0 License.


ISSN 0368-0797 (Print)
ISSN 2410-2091 (Online)